R&D

WONIK IPS的挑战和创新是现在进行时。
将提供最高品质的设备及服务。

半导体研究所/显示器研究所 (ECO研究所)

重点挖掘开发新一代工艺及产品的R&D研究所正与元件企业和零配件企业活跃开展共同研究。
拥有相当于10级净化室的量产设备的研究设施，并通过系统直接设计新工艺，进而开发出新一代主打产品群。
同时，具体实现从根本上解决主打产品系统问题的多种多样的机械、电子方面的创意。

WONIK IPS的R&D研究所为了进行工艺测试和监控其结果，计测器确保在10级的空间内，并配置运营计测器，以便可以从厚度测量、电阻测量、颗粒测量、压力测量等涂膜相关的多个角度进行分析，并且还积极利用在高倍率界面分析及成分分析上有用的FE-SEM。

R&D研究所内的设备指向给客户供货的设备和在H/W和S/W方面具有相同性能的镜像工具概念，并根据未来技术按比例缩减的趋势，具备可以在晶圆状态下对微细颗粒进行分析的最新的SEM-Vision，加速进行研究活动。

  1. 반도체 연구소 半导体研究所
  2. 디스플레이 연구소 显示研究所(ECO 研究所)

WONIK IPS的R&D能力

  1. 通过R&D组织的二元化，最大限度提高开发效果
    (半导体研究所&显示器研究所)
  2. 研究开发中心的人力结构
    (全体人力的50%以上)
  3. 2024年 04月末在 韩国国内
    申请专利 795项, 注册专利 761项

研究实绩

  • 申请
  • 注册
  • 国内
  • 国外
  • CVD
  • ALD
  • OLED
  • Etcher
  • Solar
  • ETC

2018 年

  1. - Gemini ALD Ox出口中国
  2. - 显示设备出口中国
  3. - 开发NOA设备

2017 年

  1. - 开发QUANTA设备

2016 年

  1. - GEMINI设备量产

2015 年

  1. - 开发GEMINI设备

2014 年

  1. - MAHA AL（ALD）设备量产
  2. - MAHA MLT(MOLD) 设备量产

2013 年

  1. - TSP量产产线连续溅镀机上市
  2. - FIC 8G干式蚀刻机向海外出口
  3. - MAHA MP设备首次向海外发货

2012 年

  1. - 开发MAHA MP

2011 年

  1. - MAHA SP 100号机出货

2010 年

  1. - MAHA-MP设备量产
  2. - 300mm新金属设备（AKRA）量产

2009 年

  1. - 开发LED制造用 MO-CVD设备硬件
  2. - PE-CVD设备100号机出货
  3. - 设立生态研究所
  4. - 太阳能电池PECVD设备量产

2008 年

  1. - 300mm DB21设备量产
  2. - 太阳能电池LPCVD设备量产
  3. - MAHA-SP设备量产

2007 年

  1. - 高生产性半导体设备量产(BLUETAIN)
  2. - LCD 8G干式蚀刻机量产

2006 年

  1. - LCD设备上市
  2. - 接受RACVD 及Blue Tain等相关专利权转让（15项）

2005 年

  1. - 韩国国内最早的量产用金属ALD/CVD 300mm量产
  2. - 韩国国内最早的量产用金属ALD/CVD 200mm 量产

2004 年

  1. - 太阳能电池设备向日本出口

2002 年

  1. - 进军PE-CVD

1998 年

  1. - 世界最早的量产用200mm ALD工艺设备量产

1996 年

  1. - 签订ALD 200mm及干蚀刻200mm设备共同开发合同