R&D

WONIK IPSの挑戦と革新は、現在進行形です。
最高品質の設備とサービスを提供してまいります。

半導体研究所 / ディスプレイ研究所(ECO研究所)

次世代工程と製品を重点的に発掘・開発するR&D研究所は、素子企業と部品企業との共同研究を活発に繰り広げています。
Clean room 10 Classの量産装置に準ずる研究施設を保有しており、新しい工程をシステムで直接設計して、更には次世代主力製品群も開発しています。
また、主力製品システムの問題点を根本的に革新させる多様な機械的かつ電子的なアイデアを具現化しています。

WONIK IPSのR&D研究所には、工程テストとリアルタイムでその結果をモニタリングするための計測器が10Classの空間内に確保されており、厚さ測定、抵抗測定、Particle測定、Stress測定など、塗布幕を様々な角度から分析できる計測器が設置・運営されており、高倍率断面分析、成分分析に役立つFE-SEMも積極的に活用しています。

R&D研究所内の設備は、顧客に納品される設備とH/WとS/W面で同一の性能を持つMirror Tool概念を志向しており、今後、技術のScale Down傾向に従い、Wafer状態で微細Particleを分析できる最新のSEM-Visionを揃えて、研究開発を加速化させていく予定です。

  1. 반도체 연구소 半導体研究所
  2. 디스플레이 연구소 ディスプレイ研究所(ECO研究所)

WONIK IPSのR&D力量

  1. R&D組織の2元化を通じた開発効果の極大化
    (半導体研究所&ディスプレイ研究所)
  2. 研究開発中心の人材構造
    (全人材の50%以上)
  3. 2024年 04末、韓国内外の
    特許出願 795件, 登録 761件

研究実績

  • 出願
  • 登録
  • 國内
  • 國外
  • CVD
  • ALD
  • OLED
  • Etcher
  • Solar
  • ETC

2018 年

  1. - QUANTA装置量産
  2. - Display装置中国輸出
  3. - NOA装置開発

2017 年

  1. - QUANTA装置開発

2016 年

  1. - GEMINI装置量産

2015 年

  1. - GEMINI装置開発

2014 年

  1. - MAHA AL(ALD)装置量産
  2. - MAHA MLT(MOLD)装置量産

2013 年

  1. - TSP量産ラインInline Sputter販売開始
  2. - FIC 8G Dry-Etcher海外輸出
  3. - MAHA MP装置海外初出荷

2012 年

  1. - MAHA MP開発

2011 年

  1. - MAHA SP 100号機出荷

2010 年

  1. - MAHA-MP装置量産
  2. - 300mm New Metal装置(AKRA)量産

2009 年

  1. - LED製造用MO-CVD装置Hardware開発
  2. - PE-CVD装置100号機出荷
  3. - エコ研究所設立
  4. - Solar Cell PECVD装置量産

2008 年

  1. - 300mm DB21装置量産
  2. - Solar Cell LPCVD装置量産
  3. - MAHA-SP装置量産

2007 年

  1. - 高生産性半導体装置量産(BLUETAIN)
  2. - LCD 8G Dry Etcher量産

2006 年

  1. - LCD装置販売開始
  2. - RACVDおよびBlue Tainなどの関連特許権譲受(15件)

2005 年

  1. - 韓国内初の量産用Metal ALD/CVD 300mm量産
  2. - 韓国内初の量産用Metal ALD/CVD 200mm量産

2004 年

  1. - Solar Cell装置日本輸出

2002 年

  1. - PE-CVD進出

1998 年

  1. - 世界初の量産用200mm ALD工程装置量産

1996 年

  1. - ALD 200mmおよびDry Etch 200mm装置共同開発契約