List
GEMINI ALD (Kairos PE-ALD)
Process
-ALD Oxide
-SiN _ Ternary oxide
Applications
- Patterning (Spacer for SADP/QP)
- Hardmask
- Liner
- Gap fill
Introduction.
SADP와 SAQP와 같은 여러 패터닝을 증착하는 필름은 CD (Critical Dimension)을 형성하기에 이는 매우 중요한 역할을 합니다. GEMINI ALD SYSTEM은 매우 균일한 박막으로 다중 패터닝 애플리케이션을 위한 솔루션을 제공합니다. 작은 장비 면적과 높은 생산성(UPEH), 매우 뛰어난 균일성으로 여러 경쟁 모델보다 우수한 성능을 자랑합니다. 또한 웨이퍼 맵 프로필(map profile) 변경에서 다양한 Knob을 가지고 있으며 하드웨어 변경 없이 간편하게 공정 온도 변경이 가능합니다.
Technology.
High etch selectivity, smooth film surface, adjustable film stress are controled by composition rate .
Features.
1. Carefully designed chamber, swappable process kits and pumping system for minimal defect and easy maintenance. 2. Edge and backside control by edge flow and vacuum chucking system: Less edge defect and more DOF margin.
