List
WIDAS
Process
Oxidation
Anneal
Alloy
PI bake
Poly
ALD Ox/SiN
Applications
STI
Mask
Gap fill
Liner
Spacer
Buffer
Introduction.
WIDAS는 WINAS의 확장 플랫폼으로써, 배치 당 처리 능력을 향상 시켰으며 더욱 향상된 핵심 Module 기술 (Heater, Robot, Controller)이 적용되어 우수한 공정 능력을 제공하고 있습니다.
Technology.
WINAS와 마찬가지로 뛰어난 온도 제어 기술 및 독창적이고 안정적인 Chamber 구조를 통하여 균일한 박막형성과 Particle 및 Metal Impuritiy 억제를 극대화 할 수 있습니다. 무엇보다도 WIDAS의 장점은 배치 당 생산성 능력을 극대화하여 장비 투자 및 유지 비용을 크게 절감할 수 있습니다.
Features.
- High productivity : up to 175 wafers per batch - High precision temperature / pressure control technology - Excellent film thickness uniformity (WiW, WtW & BtB) - Excellent step coverage (>95%) - Fast ramp up & down heater - Reliable mechtronics
