List
R.I.E
Process
-Dry texturing
-Black Silicon
Applications
-Solar wafer texturing
Introduction.
RIE는 태양광 산업에서 웨이퍼 기판의 반사율을 낮추는데 사용됩니다. 당사의 RIE 장비는 다결정 웨이퍼 대량 생산 라인에서 사용되는 유일한 건식 식각 공정 장비입니다. 최근 IPS RIE 장비는 신규 플라즈마 기술 "접지 마스크"를 적용해 식각률을 1.5배로 늘리면서 습식 식각장비 대비 경쟁력을 확보했습니다. 머지않아 IPS RIE는 태양열 산업의 습식 식각 공정 장비를 대체할 것으로 예상하고 있습니다.
Technology.
RIE(반응 이온 식각) 건식 텍스처 식각 공정은 피라미드 모양 텍스처를 형성하여 태양광 웨이퍼 표면을 거칠게 만드는 공정입니다. 태양 전지 셀의 효율을 높이려면 더 큰 피라미드 모양의 텍스쳐가 필요합니다.
Features.
1. Planar CCP plasma mode(13.56MHz single RF) 2. 10*10 wafers(156mm*156mm) loading in a batch 3. High etching rate and uniformity by grounded mask 4. High uptime rate by cluster type system 5. High throughput by dual arm picking system
기술 및 제품 문의
TEL : 031-8047-7624 E-mail : solar@ips.co.kr