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WIDAS

WIDAS는 WINAS의 확장 플랫폼으로써, 배치 당 처리 능력을 향상 시켰으며 더욱 향상된 핵심 Module 기술 (Heater, Robot, Controller)이 적용되어 우수한 공정 능력을 제공하고 있습니다.

  1. # Oxidation
  2. #Anneal
  3. #Alloy
  4. #PI bake
  5. #Poly
  6. #ALD Ox/SiN

NOA ALD

NOA는 다양한 금속 박막 공정을 통합 사용할 수 있는 유일한 고유 기능을 가지고 있습니다. 사용자 필요에 따라 NOA는 다양한 조건별로 플랫폼을 확장할 수 있으며 이는 Ti/TiN, Tungsten, Clean step 등을 단일 시스템으로 통합할 수 있는 확정성을 가지고 있습니다.

  1. #Ti/ALD–TiN
  2. #ALD-TiN
  3. #ALD-W
  4. #TOT (TiN/Ox/TiN)

GEMINI HQ

GEMINI CVD 시스템은 플라즈마를 이용한 화학증기 증착 기술을 사용하여 반사막 (Anti-Refective Coating) 및 하드마스크 (Hardmask)와 같은 유전막 필름을 형성하는데 사용됩니다.

  1. #SiON
  2. #A-Si
  3. #TEOS

GEMINI ALD (Kairos PE-ALD)

SADP와 SAQP와 같은 여러 패터닝을 증착하는 필름은 CD (Critical Dimension)을 형성하기에 이는 매우 중요한 역할을 합니다. GEMINI ALD SYSTEM은 매우 균일한 박막으로 다중 패터닝 애플리케이션을 위한 솔루션을 제공합니다.

  1. #ALD Oxide
  2. #SiN _ Ternary oxide

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